超純水既將水中的導電介質幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。我們根據水的電阻率來判斷水的純度，一般純水電阻率為10兆歐左右，高純水10-15兆歐，超純水電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm。

污染物是半導體器件性能、可靠性和良品率降低的直接原因。研究表明，沾污帶來的缺陷引起的芯片電學失效，比例高達80%。正因如此，芯片生產過程中需要利用超純水對硅片進行清洗。隨著半導體先進制程的推進，光刻步驟的增加，需要清洗的步驟也進一步增加，對超純水品質的要求也更加嚴格。

超純水作為電子制造中常見水，其制造離不開電子超純水設備。該設備可以保證電子產品所需超純水高質量的產出，從而確保適用電子制造中硅片、半導體材料、晶元材料等清洗使用。

完善的超純水設備需要克服工藝和工程實踐的多重挑戰(zhàn)。一般超純水設備要經由多重過濾、離子交換、除氣、逆滲透、紫外線、超濾、納米濾、離子吸附過濾等多個環(huán)節(jié)才能產生超純水，整個制造過程中采用的工藝技術復雜而精細，不容偏差。此外，各地供應水源中的離子含量也各有差別，為適應供水水源的轉變并保證出水水質，電子級超純水制備系統(tǒng)需要進行優(yōu)化，加強技術聯用工藝設計與運行，這也對超純水企業(yè)的工藝能力帶去挑戰(zhàn)。

萊特萊德超純水設備整套工藝流程包含了預處理工藝、反滲透純水工藝、超純化處理工藝以及精細處理工藝四大工藝一體，經過多級過濾單元、高性能樹脂的離子置換、超濾過濾系統(tǒng)、紫外燈殺菌等多個單元處理之后，超純水設備的最終產水的電阻率最高可以達到18MΩ*cm左右，水中雜質不但全部被去除，并且細菌微生物等物質也不復存在，與此同時，礦物質與微量元素也全部消除。