超純水既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。我們根據(jù)水的電阻率來判斷水的純度，一般純水電阻率為10兆歐左右，高純水10-15兆歐，超純水電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm。

污染物是半導(dǎo)體器件性能、可靠性和良品率降低的直接原因。研究表明，沾污帶來的缺陷引起的芯片電學(xué)失效，比例高達80%。正因如此，芯片生產(chǎn)過程中需要利用超純水對硅片進行清洗。隨著半導(dǎo)體制程的推進，光刻步驟的增加，需要清洗的步驟也進一步增加，對超純水品質(zhì)的要求也更加嚴(yán)格。

超純水作為電子制造中常見水，其制造離不開電子超純水設(shè)備。該設(shè)備可以保證電子產(chǎn)品所需超純水高質(zhì)量的產(chǎn)出，從而確保適用電子制造中硅片、半導(dǎo)體材料、晶元材料等清洗使用。

完善的超純水設(shè)備需要克服工藝和工程實踐的多重挑戰(zhàn)。一般超純水設(shè)備要經(jīng)由多重過濾、離子交換、除氣、逆滲透、紫外線、超濾、納米濾、離子吸附過濾等多個環(huán)節(jié)才能產(chǎn)生超純水，整個制造過程中采用的工藝技術(shù)復(fù)雜而精細，不容偏差。此外，各地供應(yīng)水源中的離子含量也各有差別，為適應(yīng)供水水源的轉(zhuǎn)變并保證出水水質(zhì)，電子級超純水制備系統(tǒng)需要進行優(yōu)化，加強技術(shù)聯(lián)用工藝設(shè)計與運行，這也對超純水企業(yè)的工藝能力帶去挑戰(zhàn)。

萊特萊德超純水設(shè)備整套工藝流程包含了預(yù)處理工藝、反滲透純水工藝、超純化處理工藝以及精細處理工藝四大工藝一體，經(jīng)過多級過濾單元、高性能樹脂的離子置換、超濾過濾系統(tǒng)、紫外燈殺菌等多個單元處理之后，超純水設(shè)備的最終產(chǎn)水的電阻率可以達到18MΩ*cm左右，水中雜質(zhì)不但全部被去除，并且細菌微生物等物質(zhì)也不復(fù)存在，與此同時，礦物質(zhì)與微量元素也全部消除。